我们厂最近在做6层HDI板(1+N+1结构),初期盲孔良率只有85%,经过三个月的工艺优化提升到98%以上。以下是详细的改善过程和数据分析。
主要改进措施及效果:
三个月的数据统计显示,综合良率从85.3%提升到98.2%,每月减少报废损失约15万元。希望对做HDI的同行有帮助,有问题可以跟帖讨论。

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我们厂最近在做6层HDI板(1+N+1结构),初期盲孔良率只有85%,经过三个月的工艺优化提升到98%以上。以下是详细的改善过程和数据分析。
主要改进措施及效果:
三个月的数据统计显示,综合良率从85.3%提升到98.2%,每月减少报废损失约15万元。希望对做HDI的同行有帮助,有问题可以跟帖讨论。
从85%到98%的提升非常显著!请问等离子体处理设备用的是哪家?国产的还是进口的?
盲孔的纵横比也是一个关键因素,我们控制在0.75:1以内良率最好。超过1:1就很难保证了。
补充一点:激光钻孔后的孔壁粗糙度也会影响沉铜质量,建议用SEM检查一下孔壁形貌。
请问你们的盲孔孔径是多少?0.1mm以下的微盲孔良率控制更难。
干货满满,已收藏。希望楼主后续能分享一下填孔电镀的参数。
激光钻孔参数从3.5W调到4.2W这个调整方向是对的。功率太低会导致孔壁粗糙度差,太高又会烧蚀过度。建议同时关注光束质量因子M²,好的激光器M²<1.3,打孔一致性会好很多。我们用的三菱ML605GT系列效果不错。
等离子体除胶渣替代化学法是目前的主流趋势。化学法用的浓硫酸和高锰酸钾不仅环保压力大,而且对微小盲孔的除胶效果不均匀。等离子处理虽然设备投入大(一台约200万),但良率提升带来的收益通常6-8个月就能回本。
电镀电流密度从1.5ASD降到1.2ASD这个经验很有价值。高电流密度虽然效率高,但盲孔底部的镀铜均匀性会变差,容易出现空洞。降低电流密度配合脉冲电镀可以更好地保证孔内铜厚分布均匀。
超声波清洗工序加得好!盲孔内的残留碎屑是导致后续电镀不良的主要原因之一。建议频率选40kHz,功率密度10-15W/L,清洗时间3-5分钟。水温控制在40-50°C效果最佳。我们之前也是加了这道工序后良率提升了5个百分点。
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陈志强
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